Newsletter

DB HiTek rozpoczyna wdrażanie procesu 650V GaN HEMT u klientów

11.09.2025, 10:49aktualizacja: 11.09.2025, 10:56

Pobierz materiał i Publikuj za darmo

- Kluczowa technologia stymulująca wysoką wydajność i miniaturyzację centrów danych SI, robotyki i innych zastosowań. - Specjalny zestaw GaN MPW zostanie udostępniony pod koniec października. - Rozwój technologii BCD w zakresie półprzewodników złożonych, w tym GaN i SiC.

SEUL (Korea Południowa), 11 września 2025 r. /PRNewswire/ - Firma DB HiTek, czołowy producent specjalistycznych półprzewodników 8-calowych, poinformowała dzisiaj, że znajduje się w końcowej fazie prac nad procesem 650V E-Mode GaN HEMT (tranzystor azotku galu o wysokiej ruchliwości elektronów), platformą półprzewodników energetycznych nowej generacji. Jednocześnie z końcem października firma rozpocznie realizację projektu GaN MPW (płytka wieloprojektowa).

W porównaniu z tradycyjnymi urządzeniami zasilającymi na bazie krzemu, półprzewodniki na bazie GaN charakteryzują się doskonałą wydajnością w warunkach wysokiego napięcia, wysokiej częstotliwości i wysokiej temperatury, oferując nadzwyczajną efektywność energetyczną. Na szczególną uwagę zasługuje układ GaN HEMT 650 V E-Mode, który odznacza się wysoką prędkością przełączania i stabilnością działania, dzięki czemu doskonale sprawdzi się jako element infrastruktury ładowania pojazdów elektrycznych, systemów konwersji mocy w zaawansowanych centrach danych oraz nowoczesnych urządzeń sieci 5G.

W 2022 roku, kiedy rynek półprzewodników złożonych był jeszcze w powijakach, firma DB HiTek uznała GaN i SiC za kluczowe czynniki wzrostu i od tego czasu zainwestowała znaczne środki w rozwój tych technologii. Rzecznik DB HiTek powiedział:

„Firma DB HiTek jest uznawana na całym świecie za lidera w dziedzinie technologii półprzewodników energetycznych na bazie krzemu oraz doceniania za opracowanie pierwszego w branży procesu BCDMOS 0,18 µm. Poprzez zwiększenie możliwości procesu GaN, a także rozszerzenie oferty technologicznej oczekujemy wzmocnienia konkurencyjności naszej spółki”.

Na potrzeby wdrożenia tych inicjatyw firma DB HiTek rozbudowuje pomieszczenia czyste w zakładzie Fab2, zlokalizowanym w prowincji Chungcheongbuk-do w Korei Południowej. Ekspansja ma zapewnić dodatkową zdolność produkcyjną wynoszącą około 35 tys. płytek 8-calowych miesięcznie, wspierając produkcję procesów GaN, BCDMOS i SiC. Po zakończeniu prac całkowita miesięczna zdolność produkcyjna wzrośnie o 23%, czyli z 154 tys. do 190 tys. płytek.

Równocześnie firma DB HiTek weźmie udział w konferencji ICSCRM (międzynarodowa konferencja poświęcona węglowemu krzemowi i materiałom pokrewnym) 2025, która odbędzie się w dniach 15-18 września w centrum BEXCO w Pusanie. Podczas tego międzynarodowego forum branżowego zaprezentowane zostaną postępy w rozwoju technologii SiC oraz GaN i BCDMOS; producent liczy również na nawiązanie bezpośrednich kontaktów z klientami i liderami branży.

Logo - https://mma.prnewswire.com/media/2656225/image_5026888_21003402_Logo.jpg 

Źródło: DB HiTek

Źródło informacji: PR Newswire

 

Pobierz materiał i Publikuj za darmo

bezpośredni link do materiału
Data publikacji 11.09.2025, 10:49
Źródło informacji PR Newswire
Zastrzeżenie Za materiał opublikowany w serwisie PAP MediaRoom odpowiedzialność ponosi – z zastrzeżeniem postanowień art. 42 ust. 2 ustawy prawo prasowe – jego nadawca, wskazany każdorazowo jako „źródło informacji”. Informacje podpisane źródłem „PAP MediaRoom” są opracowywane przez dziennikarzy PAP we współpracy z firmami lub instytucjami – w ramach umów na obsługę medialną. Wszystkie materiały opublikowane w serwisie PAP MediaRoom mogą być bezpłatnie wykorzystywane przez media.

Newsletter

Newsletter portalu PAP MediaRoom to przesyłane do odbiorców raz dziennie zestawienie informacji prasowych, komunikatów instytucji oraz artykułów dziennikarskich, które zostały opublikowane na portalu danego dnia.

ZAPISZ SIĘ